当前，半导体先进制程迭代提速、先进封装产业蓬勃发展，CMP 化学机械抛光材料作为晶圆制造与精密光学加工的核心耗材，国产替代进程持续加速。2018年成立于深圳的深圳万稳实业有限公司，是专注于半导体 CMP抛光液研发、生产与销售的高新技术企业，依托自有品牌驰明普（CHAMPPRO），打造覆盖多材质、多场景的全系列 CMP抛光液及配套后清洗产品，为半导体晶圆制造、先进封装、精密光学、特种金属加工等领域提供高纯度、高性能化学机械抛光整体解决方案，持续赋能国内 CMP材料自主可控与国产化升级。
万稳实业扎根深圳半导体产业集群，坚持技术自研、品质严控、定制化服务的发展路线，建立完善的研发、生产、检测体系。公司深耕CMP材料细分赛道多年，精准洞察行业工艺需求，不断优化产品配方与生产工艺，构建起CMP抛光液与CMP抛光后清洗剂的完整产品矩阵，适配硅片、合金、不锈钢、陶瓷、蓝宝石等多种基材超精密抛光与清洗工艺，性能对标行业高端标准，具备高平整度、低划伤、易清洗、稳定性强等核心优势。
在CMP抛光液核心产品线中，驰明普布局主力产品，覆盖半导体及精密制造主流应用场景。硅片抛光液专为半导体硅晶圆基底抛光设计，可实现纳米级表面平坦化，杂质含量低、抛光均匀性好，适配晶圆制造前段精抛工序。钛合金、铝合金CMP抛光液针对航空航天、精密器械合金部件研发，研磨速率适中，能在保障抛光精度的同时避免基材腐蚀，满足高端金属构件镜面加工需求。不锈钢CMP抛光液适用于精密五金、半导体不锈钢配件抛光，可快速去除表面毛刺与凹凸瑕疵，成品光洁度高，适配批量工业化生产。
同时，公司布局功能性材料抛光品类，金刚石悬浮液采用复合原料配方，颗粒分散性优异，适用于超硬材料、精密模具的精细研磨，悬浮稳定性强，使用前摇匀即可作业，操作便捷。陶瓷CMP抛光液凭借高平整度、易清洗的特点，广泛应用于结构陶瓷、陶瓷基片等产品加工，抛光后无残留、无划痕，大幅简化后续清洗流程。蓝宝石CMP抛光液主打高效抛光与镜面级成面效果，适配蓝宝石衬底、光学镜片、智能穿戴光学元件等高端领域，是精密光学制造的核心配套材料。
完善的清洗配套是保障 CMP 工艺良率的关键。万稳实业同步推出CMP抛光后清洗剂产品，形成 “抛光 + 清洗”一站式配套服务。其中陶瓷、玻璃、蓝宝石专用清洗剂，精准匹配三类材质抛光后残留杂质、研磨粉末的清洁需求，清洗效率高且不损伤工件表面光学性能；不锈钢清洗液专为不锈钢CMP 抛光后工序定制，可温和剥离油污与抛光残渣，兼顾洁净度与基材防护，有效提升成品合格率。
凭借齐全的产品矩阵、严苛的半导体级品质管控以及丰富的应用落地案例，驰明普全系列产品已深度服务半导体、先进封装、精密光学、五金加工等众多行业。2026年CMP抛光液行业迎来量价齐升窗口期，先进封装成为行业新增长极，国产替代从单点突破迈向全面普及。
面向未来，深圳万稳实业将持续以技术与品质为双轮驱动，深耕CMP抛光液核心赛道，不断迭代优化七大精抛液与清洗液产品性能，丰富定制化产品服务能力。公司将立足深圳产业优势，持续加大研发投入，突破高端CMP材料技术壁垒，以一站式解决方案赋能上下游客户，全力推动国产CMP 材料实现自主可控，为半导体产业链及高端精密制造产业高质量发展注入坚实力量。
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当前，半导体先进制程迭代提速、先进封装产业蓬勃发展，CMP 化学机械抛光材料作为晶圆制造与精密光学加工的核心耗材，国产替代进程持续加速。2018年成立于深圳的深圳万稳实业有限公司，是专注于半导体 CMP抛光液研发、生产与销售的高新技术企业，依托自有品牌驰明普（CHAMPPRO），打造覆盖多材质、多场景的全系列 CMP抛光液及配套后清洗产品，为半导体晶圆制造、先进封装、精密光学、特种金属加工等领域提供高纯度、高性能化学机械抛光整体解决方案，持续赋能国内 CMP材料自主可控与国产化升级。
万稳实业扎根深圳半导体产业集群，坚持技术自研、品质严控、定制化服务的发展路线，建立完善的研发、生产、检测体系。公司深耕CMP材料细分赛道多年，精准洞察行业工艺需求，不断优化产品配方与生产工艺，构建起CMP抛光液与CMP抛光后清洗剂的完整产品矩阵，适配硅片、合金、不锈钢、陶瓷、蓝宝石等多种基材超精密抛光与清洗工艺，性能对标行业高端标准，具备高平整度、低划伤、易清洗、稳定性强等核心优势。
在CMP抛光液核心产品线中，驰明普布局主力产品，覆盖半导体及精密制造主流应用场景。硅片抛光液专为半导体硅晶圆基底抛光设计，可实现纳米级表面平坦化，杂质含量低、抛光均匀性好，适配晶圆制造前段精抛工序。钛合金、铝合金CMP抛光液针对航空航天、精密器械合金部件研发，研磨速率适中，能在保障抛光精度的同时避免基材腐蚀，满足高端金属构件镜面加工需求。不锈钢CMP抛光液适用于精密五金、半导体不锈钢配件抛光，可快速去除表面毛刺与凹凸瑕疵，成品光洁度高，适配批量工业化生产。
同时，公司布局功能性材料抛光品类，金刚石悬浮液采用复合原料配方，颗粒分散性优异，适用于超硬材料、精密模具的精细研磨，悬浮稳定性强，使用前摇匀即可作业，操作便捷。陶瓷CMP抛光液凭借高平整度、易清洗的特点，广泛应用于结构陶瓷、陶瓷基片等产品加工，抛光后无残留、无划痕，大幅简化后续清洗流程。蓝宝石CMP抛光液主打高效抛光与镜面级成面效果，适配蓝宝石衬底、光学镜片、智能穿戴光学元件等高端领域，是精密光学制造的核心配套材料。
完善的清洗配套是保障 CMP 工艺良率的关键。万稳实业同步推出CMP抛光后清洗剂产品，形成 “抛光 + 清洗”一站式配套服务。其中陶瓷、玻璃、蓝宝石专用清洗剂，精准匹配三类材质抛光后残留杂质、研磨粉末的清洁需求，清洗效率高且不损伤工件表面光学性能；不锈钢清洗液专为不锈钢CMP 抛光后工序定制，可温和剥离油污与抛光残渣，兼顾洁净度与基材防护，有效提升成品合格率。
凭借齐全的产品矩阵、严苛的半导体级品质管控以及丰富的应用落地案例，驰明普全系列产品已深度服务半导体、先进封装、精密光学、五金加工等众多行业。2026年CMP抛光液行业迎来量价齐升窗口期，先进封装成为行业新增长极，国产替代从单点突破迈向全面普及。
面向未来，深圳万稳实业将持续以技术与品质为双轮驱动，深耕CMP抛光液核心赛道，不断迭代优化七大精抛液与清洗液产品性能，丰富定制化产品服务能力。公司将立足深圳产业优势，持续加大研发投入，突破高端CMP材料技术壁垒，以一站式解决方案赋能上下游客户，全力推动国产CMP 材料实现自主可控，为半导体产业链及高端精密制造产业高质量发展注入坚实力量。
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